常见的抛光方式有哪些，这些抛光方式有哪些区别？

目前常用的抛光方式有机械抛光、化学抛光、电解抛光等。

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主。对表面质量要求高的可采用超精研抛的方法，利用该技术可以达到 Ra0.008 μm 的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的，光学镜片模具常采用这种方法。机械抛光的缺点是劳动强度大，污染严重，复杂零件无法加工，且其光泽不能一致,光泽保持时间不长，发闷、生锈。比较适合加工简单件，中、小产品。

化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10 μm 。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光的缺点是光亮度差,有气体溢出，需要通风设备，加温困难。适合加工小批量复杂件及小零件光亮度要求不高的产品。

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。其缺点是防污染性高，加工设备一次性投资大，复杂件要工装、辅助电极，大量生产还需要降温设施。

等离子抛光是利用气液等离子体发生技术，将工件置于抛光液中，施加一定的直流电压，使工件周围的抛光液汽化，形成一个包围工件的气层，通过在气层的不同位置形成放电通道，将表面材料有选择地去除，实现对金属工件表面抛光。在该抛光体系下电极（抛光工件）、放电介质、气层和抛光液四相共同作用，主要通过放电去除表面材料，区别于传统的化学去除，也区别于电解抛光体系下的电极、电解液的两相相互作用，利用电解液的电化学溶解抛光。金属等离子抛光与常见金属抛光方式对比不仅能解决传统机械抛光方法所存在的问题，对形状复杂的工件达到很好的抛光效果，并可以同时抛光多工件。同时在这些抛光方式中是最环保的，抛光液为低浓度的中性盐溶液对环境几乎没有污染，抛光质量和效率都是传统抛光方法难以达到的。等离子抛光的缺点是目前功耗略高，认知度低。